Szybkie przyjęcie technologii sztucznej inteligencji (AI) napędza popyt na układy scalone (IC) dla centrów danych. W dziedzinie zaawansowanych opakowań, w tym chipletów, wielkość opakowań rośnie wraz z miniaturyzacją schematów okablowania. Doprowadzi to do zwiększonego zapotrzebowania na pakiety na poziomie panelu, w których wykorzystuje się szkło i inne materiały odpowiednie dla większych opakowań, wymagające sprzętu naświetlającego łączącego wysoką rozdzielczość z dużym obszarem naświetlania. Aby sprostać tym wymaganiom, firma Nikon opracowuje cyfrowy sprzęt do naświetlania, który łączy w sobie technologię wysokiej rozdzielczości swoich półprzewodnikowych systemów litograficznych, rozwijaną przez wiele dziesięcioleci, z doskonałą produktywnością możliwą dzięki technologii wielosoczewkowej systemów litograficznych FPD .
W systemie litografii cyfrowej nie stosuje się fotomasek. Zamiast tego napromienia światło ze źródła na przestrzenny modulator światła (SLM), który wyświetla wzór obwodu i przenosi go na podłoże dzięki układu optycznego projekcyjnego. Ponieważ nie ma potrzeby projektowania ani wytwarzania fotomasek, system litografii cyfrowej przyczynia się również do obniżenia kosztów, a także skrócenia czasu opracowywania i wytwarzania produktów.
Firma Nikon będzie w dalszym ciągu przyczyniać się do zaawansowanej produkcji półprzewodników, dostarczając systemy i rozwiązania litograficzne, aby w pełni zaspokoić cele i wymagania produkcyjne naszych klientów.
